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Substrate: Sapphire (c-cut) Quartz (Silica) TEM grids (please supply grids) Thermal Oxide (SiO2/Si) Polyethylene terephthalate – PET Substrates Pick your own substrates (please define the substrate ty
Newly acquired ion implantation accelerator unit allows 2Dsemiconductors USA to create desired amounts of defects by alpha particle irradiation process at select amount of doses.
基于SiO2/Si晶片的雙層CVD石墨烯薄膜 將兩層單層CVD石墨烯膜轉移 到285nm p摻雜的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm; 8片 將每個石墨烯膜連續轉移到晶片上 我們的石墨烯薄膜的厚度和質量由拉曼光譜控制 該產品的石墨烯覆蓋率約為98％ 石墨烯薄膜是連續的，具有小孔和有機殘留物 每個石墨烯薄膜主要是單層（超過95％），偶爾有少量多層（低于5％的雙層） 由于沒有A-B堆疊
德國2D Next主要提供機械剝離的超大尺寸二維材料，可以提供在眾多基底上的轉移技術，如二氧化硅，藍寶石，CVD金剛石等，可用材料包括MoS2，MoSe2，WS2，WSe2等，提供三種尺寸的機械剝離2L/3L材料，分別為50um,75um,100um
1．將單層硫化鉬轉移至襯底（襯底可根據客戶需求選定）$n2．邊長15um （三角形）片內層數均勻$n3．襯底上轉移3個（數量可定制）帶電極的單層硫化鉬樣品$n4．電極間距：~5um
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